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光刻机技术的突破【mg游戏平台手机版网站】

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众所周知,在当下时代竞争的背景下,全球各国的竞争不再局限于军事和经济,更多的则是科技层面的比拼,毕竟所谓的军事和经济基本都需要建立在科技力量之上。很显而易见,美国之所以能够在二战后一举成为超级大国,不就是因为在科技领域的遥遥领先?所以科技强国的道理也并非是空穴来风。

随着我国开始重视芯片的发展后,目前中国接近2000家与芯片设计相关的企业,包括华为、紫光展锐、依图科技等均取得了较为理想的成绩。据悉,目前中国芯片占据全球芯片营收13%。除了营收和占有率的增长外,在近期,中国芯片再传捷报,技术上的3大突破,让大批国人笑开了花!

第二大技术,光刻机技术的突破。大家都知道,芯片的生产通常包括两个环节,一个是设计,另一个则是制造,而在制造的过程中光刻机的存在就显得尤为重要。而在日前中国自主研发的14nm光刻机已经初步通过了专家组的验收和审核。而近期,据媒体报道,武汉光电国家研究中心的甘宗松团队,目前已经成功研发9nm工艺制程的光刻机,与传统光刻机技术不同是,国产9nm光刻机采用了二束激光突破衍射极限,同时我国也掌握知识产权。

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